一、扶持領域和對象

該項目扶持領域和對象為無錫市區(qū)范圍內的集成電路設計類企業(yè)，但不限于相關資質。

政策中規(guī)定的“產品”是指經過掩模板（FullMask或者MPW）流片，達到設計要求后，可以提供給集成電路系統(tǒng)整機廠商進行芯片性能測試及示范應用的非量產用芯片產品。

政策中規(guī)定的“首輪流片”是指設計企業(yè)就本“產品”，**與制造企業(yè)簽訂流片合同，利用其生產線流片的過程。

原則上，單個產品首輪流片用8英寸（含）以下wafer數(shù)量不超過15片，12英寸wafer數(shù)量不超過10片。

二、申報條件

掩模、流片開票日期為上一個自然年，支持同一平臺（即同一掩模、流片廠商）上的多個產品、多張發(fā)票；除分立器件、傳感器和光電子類產品外，其它產品線寬須小于0.25μm（含）。線寬小于45nm（含）的產品與線寬大于45nm的產品不得合并申報；項目總投入不低于80萬元。

三、扶持標準

對集成電路設計企業(yè)開展的擁有自主知識產權、工藝制程達到一定節(jié)點的產品工程流片（含MPW）項目，按不超過該款產品首輪流片（含掩模制版，不含IP購置。）費用的50%給予支持。普通產品支持總額*高300萬元，工藝制程達到45nm及以下的產品支持總額*高600萬元。

———————————————————————————————————————————————————

想要了解更多詳情，請查看蘇州智為銘略企業(yè)管理有限公司網站http：//www.www.yzjcn.com.cn，智為銘略提供免費高新技術企業(yè)申報和企業(yè)補貼政策申請評估報告，關注智為銘略獲得更多優(yōu)惠政策。

智為銘略核心產品與服務：軟件著作權登記、商標注冊、研發(fā)費用加計扣除、江蘇省科技成果轉化專項資金、江蘇省新產品新技術鑒定、知識產權貫標、軟件產品登記、軟件企業(yè)認定及高新技術企業(yè)認定等。